Was ist nm in der Lithografie?

Nanometer in der Lithographie verstehen

Im Zusammenhang mit der Lithografie, insbesondere im Zusammenhang mit dem Halbleiterherstellungsprozess, steht nm für Nanometer , eine Maßeinheit, die einem Milliardstel Meter entspricht (1 nm = 10 -9 Meter). Diese Messung ist entscheidend für die Definition der Strukturgröße von Halbleiterbauelementen.

Lithografie ist in der Halbleiterindustrie ein Verfahren, mit dem komplexe Muster auf ein Substrat (normalerweise eine Siliziumscheibe) übertragen werden, um Schaltkreise zu erstellen, die die Grundlage für Halbleiterbauelemente wie CPUs, GPUs und Speicherchips bilden. Der Begriff nm bezieht sich in diesem Zusammenhang auf den Technologieknoten oder Prozessknoten , der den Halbabstand der dichtesten integrierten Schaltkreiselemente angibt, die mit einer bestimmten Technologie hergestellt werden können.

Mit dem technologischen Fortschritt hat die Branche verschiedene Entwicklungsstufen durchlaufen, von 10 nm über 7 nm und 5 nm bis hin zu noch mehr. Jeder Schritt nach unten stellt einen Technologiesprung dar, der es ermöglicht, mehr Transistoren auf demselben Raum unterzubringen, was die Leistung und Energieeffizienz deutlich steigert und gleichzeitig die Kosten senkt.

Der Übergang zu kleineren Knoten ist ein komplexer und kostspieliger Prozess, der fortschrittliche Fotolithografietechniken erfordert. Die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV) ist eine solche Technik, die für Knoten unter 10 nm zunehmend an Bedeutung gewonnen hat, da sie die Erstellung feinerer Muster ermöglicht, die über die Möglichkeiten der herkömmlichen Tief-Ultraviolett-Lithografie (DUV) hinausgehen.

Zusammenfassend bezeichnet der Begriff „nm“ in der Lithografie die Größenordnung des Herstellungsprozesses, wobei kleinere Zahlen auf eine fortschrittlichere Technologie hinweisen, mit der dichtere und effizientere Halbleiterbauelemente hergestellt werden können.

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