コレクション: 193nm DUV バンドパス フィルター

半導体製造におけるフォトリソグラフィー: 193 nm 光の最も顕著な用途は、半導体製造におけるフォトリソグラフィーです。この波長は、エキシマ レーザー リソグラフィー システムで使用され、半導体ウェーハ上に非常に微細なパターンを形成します。波長が短いため、高度なマイクロプロセッサやメモリ デバイスにとって重要な、極めて微細な機能を備えた回路を作成できます。

材料研究と加工: 193 nm 光はエネルギーが高く、分子結合を切断する能力があるため、材料加工、特にエッチングや表面改質に使用されます。接触せずに材料特性を正確に変更するのに効果的で、繊細な用途に有利です。

分光法: 193 nm の深紫外線は、分子内の電子遷移を研究するための分光法で利用されます。これは化学分析において重要であり、この波長で物質がどのように光を吸収または放出するかに基づいて物質を識別し、その特性を理解するのに役立ちます。

微生物消毒: 殺菌には長波長の UV 光ほど一般的ではありませんが、193 nm の UV 光は、その強力な殺菌特性により細菌、ウイルス、その他の病原体を効果的に不活性化できるため、一部の特殊な消毒用途で使用されます。

医療用途: 医療では、193 nm の紫外線は、視力の屈折異常を矯正するために角膜の形状を変える光屈折角膜切除術 (PRK) などの特定の種類の眼科手術に使用されます。