Filtro de paso de banda de 248nm

La luz de 248nm corresponde a una longitud de onda específica del espectro ultravioleta (UV), conocida por su alta energía y su capacidad para interactuar con determinados materiales a un nivel molecular preciso.

  • Aplicación 1: En litografía de semiconductores, para aislar la longitud de onda de 248nm emitida por láseres excímeros de KrF, lo que garantiza la formación precisa de patrones en fotomáscaras para la fabricación de microchips.
  • Aplicación 2: En espectroscopia UV, para filtrar longitudes de onda no deseadas y permitir la medición precisa de la absorbancia o fluorescencia de muestras que presentan actividad espectral a 248nm, como determinados compuestos orgánicos o moléculas biológicas.
  • Aplicación 3: En sistemas de detección óptica, para mejorar la relación señal-ruido mediante el bloqueo de la luz ambiental y la transmisión exclusiva de la luz de 248nm, lo que aumenta la sensibilidad de detección en aplicaciones como la supervisión de la calidad del aire o el análisis de contaminantes.

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248nm Bandpass Filter
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US7450312B2 - Optical projection lens system

US7450312B2 - Sistema óptico de lentes de proyección

Contexto: Sistema óptico de lentes de proyección utilizado en microlitografía, el proceso de imprimir patrones de circuitos sobre obleas semiconductoras.

Uso del filtro: El filtro de paso de banda, que suele formar parte de un módulo de estrechamiento de línea o de un filtro de pureza espectral, se coloca en la trayectoria óptica de la fuente láser de excímeros KrF antes de que la luz entre en la lente de proyección.

Función: Limita estrictamente el ancho de banda espectral de la luz de iluminación a 248 nm, reduciéndolo normalmente a una fracción de picómetro (pm).

Resultado: Esto evita la aberración cromática en la lente de proyección, que está fabricada con un único material, sílice fundida, y no puede corregir los desplazamientos del foco causados por el color. De este modo, el sistema puede imprimir características extremadamente finas (submicrométricas) con un enfoque perfecto.

S7136159B2 - Excimer laser inspection system

US7136159B2 - Sistema de inspección con láser excímero

Contexto: Sistema de inspección con láser excímero para detectar defectos en obleas de semiconductores.

Uso del filtro: El filtro se utiliza en el brazo de iluminación o en la trayectoria de detección para aislar la línea láser específica de 248 nm del ruido de fondo o de la emisión de banda ancha.

Función: Actúa como selector espectral, garantizando que solo la luz ultravioleta profunda (DUV) de alta energía interactúe con la muestra o llegue al detector, mientras bloquea las longitudes de onda más largas (visible/IR) que podrían reducir el contraste.

Resultado: Se consigue la detección a alta velocidad de defectos «sublongitud de onda» (defectos más pequeños que la propia luz) en la superficie de la oblea con una elevada relación señal-ruido.

US20240201131 Patent Application - Native Fluorescence Detection for Protein Analysis

US20240201131 (Solicitud de patente) - Detección de fluorescencia nativa para el análisis de proteínas

Contexto: Detección de fluorescencia nativa para el análisis de proteínas (específicamente en sistemas de electroforesis capilar).

Uso del filtro: El filtro de paso de banda se coloca después de la fuente de luz (a menudo un plasma generado por láser o un láser de frecuencia duplicada) para «limpiar» el haz de excitación antes de que incida en el tubo capilar.

Función: Selecciona la longitud de onda de excitación específica del UV profundo (como 248 nm u otras líneas similares del UV profundo) y bloquea cualquier luz parásita u otras frecuencias armónicas que puedan interferir con la delicada señal de fluorescencia.

Resultado: El sistema excita correctamente los fluoróforos nativos (como el aminoácido triptófano) presentes en las proteínas sin necesidad de marcadores fluorescentes externos, y alcanza una sensibilidad extremadamente alta (límite de detección en el intervalo de 10-20 nM).

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