Filtros de paso de banda de 405nm

Los filtros de paso de banda 405 nm están diseñados para transmitir una banda seleccionada de longitudes de onda violetas centrada cerca de 405 nm, a la vez que reducen la luz no deseada fuera de banda.

Aplicaciones:
- Depuración de fuentes de diodo láser violeta de 405 nm
- Iluminación LED de 405 nm e inspección
- Excitación de fluorescencia de tipo DAPI/Hoechst/Brilliant Violet/Pacific Blue
- Sistemas de resina, fotopolímeros, adhesivos y exposición violeta de 405 nm
- Aislamiento de señales violetas en el lado del detector antes de cámaras, fotodiodos, PMTs o espectrómetros

Opciones de ancho de banda:
- FWHM de 1 nm, 8 nm y 10 nm para la selección estrecha de la línea láser de 405 nm
- FWHM de 20 nm y 30 nm para equilibrar la depuración de LED, el control de excitación y una señal violeta utilizable
- FWHM de 40 nm, 50 nm y 55 nm para obtener una mayor salida violeta en sistemas de iluminación o exposición

Seleccione el ancho de banda según la fuente de luz, el material objetivo o la muestra, la sensibilidad del detector, el intervalo de bloqueo y el nivel de señal requerido.
405nm Bandpass Filters
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Filtros

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Filtro

405 nm diodo láser violeta

Utilice una CWL de 405 nm con una FWHM de 1–10 nm para seleccionar la línea de un diodo láser violeta de 405 nm, depurar espectralmente la fuente o aislar en el lado del detector una señal láser de 405 nm.

Los diodos láser violetas de 405 nm, incluidas las fuentes de diodo basadas en InGaN, son fuentes de línea estrecha en comparación con los LED y las lámparas. Para el filtrado de líneas láser, las especificaciones clave son una CWL cercana a 405 nm, una FWHM como 1 nm, 8 nm o 10 nm, una alta transmisión a 405 nm y un bloqueo OD en el intervalo de longitudes de onda no deseado.

405 nm LED o matriz de LED

Utilice una CWL de 405 nm con una FWHM de 10–30 nm para la mayoría de los sistemas LED de 405 nm que necesiten un equilibrio práctico entre la depuración de la salida violeta y una señal utilizable.

Los LED de 405 nm tienen una emisión más amplia que los diodos láser, por lo que las opciones de FWHM de 10 nm, 20 nm o 30 nm suelen ser adecuadas para sistemas de iluminación, excitación de fluorescencia, inspección y exposición. Utilice una FWHM de 40–55 nm cuando el sistema necesite una mayor salida en la región violeta y pueda admitir una selección de longitudes de onda más amplia.

Fuente UV-visible de banda ancha

Utilice una CWL de 405 nm con una FWHM de 20–50 nm para seleccionar una banda violeta práctica de fuentes de xenón, mercurio-xenón, halógenas u otras fuentes UV-visible de banda ancha.

Con iluminación de banda ancha, el filtro extrae de un espectro más amplio una banda centrada en 405 nm. Utilice una FWHM de 20–30 nm cuando el sistema requiera una banda violeta mejor definida. Utilice una FWHM de 40–55 nm cuando sea más importante obtener una señal transmitida más alta para iluminación, obtención de imágenes o detección.

Excitación de fluorescencia para DAPI / Hoechst / Brilliant Violet / Pacific Blue

Utilice CWL 405 nm con 20–50 nm FWHM para canales de excitación violeta, como tinciones nucleares de tipo DAPI/Hoechst o canales de fluorescencia de tipo Brilliant Violet/Pacific Blue.

En microscopios de fluorescencia, citómetros de flujo o sistemas de detección de fluorescencia, el filtro 405 nm suele colocarse en el lado de excitación, antes de la muestra. Combine el filtro de excitación con la fuente de luz, el espejo dicroico y el conjunto de filtros de emisión. El filtro del lado de emisión debe estar centrado en la banda de emisión real, no automáticamente en 405 nm.

Sistemas de exposición para resina 405 nm, fotopolímeros y luz violeta

Utilice una CWL de 405 nm con una FWHM de 20–50 nm o superior para la exposición de resina de 405 nm, sistemas de fotopolímeros, adhesivos UV/violeta, recubrimientos o configuraciones de exposición.

En aplicaciones de exposición, el filtro define la banda de irradiación violeta que llega al material. Seleccione la FWHM según el espectro de la fuente, la irradiancia requerida, la sensibilidad del material cerca de 405 nm y el requisito de bloqueo fuera de banda.

Aislamiento de la señal de 405 nm en el lado del detector

Aislamiento de la señal 405 nm en el lado del detector
Utilice CWL 405 nm con 1–20 nm FWHM antes de un fotodiodo de silicio, una cámara CMOS/CCD, un PMT o un espectrómetro UV-visible cuando la señal objetivo esté cerca de 405 nm.

Para el filtrado en el lado del detector, el filtro debe transmitir la señal 405 nm y reducir al mismo tiempo el fondo no deseado fuera de la banda objetivo. Utilice 1–10 nm FWHM cuando se necesite un mayor aislamiento espectral. Utilice 20 nm FWHM o una anchura mayor cuando sea más importante maximizar la transmisión de la señal.

Nota de aplicación

US Patent 9,746,412 - Flow cytometer

Patente de EE. UU. 9,746,412 - Citómetro de flujo

Contexto: Esta patente describe un sistema de citometría de flujo que utiliza varios láseres, incluido un láser violeta (405 nm), para analizar partículas o células que atraviesan una zona de observación.

Uso del filtro: El filtro de paso de banda (específicamente, uno de 405/10 nm o de 405/20 nm) se utiliza en la ruta de detección del canal de dispersión lateral violeta (V-SSC).

Función: Aísla específicamente la luz de 405 nm dispersada por la célula en un ángulo de 90 grados, mientras bloquea cualquier emisión de fluorescencia, que se produce a longitudes de onda mayores, como 450 nm o 525 nm.

Resultado: Esto permite medir con precisión la complejidad interna de la célula (granularidad) sin interferencias de las señales de fluorescencia, lo cual es fundamental para distinguir entre diferentes tipos de glóbulos blancos.

US Patent 10,935,485 - Fluorescence imaging flow cytometry with enhanced image resolution

Patente de EE. UU. 10,935,485 - Citometría de flujo por imágenes de fluorescencia con resolución de imagen mejorada

Contexto: Este sistema utiliza un láser, a menudo de 405 nm, para iluminar una muestra y generar imágenes de fluorescencia que permiten determinar las propiedades químicas o físicas de las células.

Uso del filtro: Se utiliza un filtro de paso de banda de 405 nm en la trayectoria de excitación (a menudo denominado «filtro de limpieza de láser»).

Función: Se coloca después de la fuente láser de 405 nm, pero antes de la muestra. Su función es transmitir la línea láser de 405 nm y bloquear cualquier «ruido espectral» o emisión espontánea amplificada (ASE) generada por el diodo láser a longitudes de onda mayores (p. ej., 420–450 nm).

Resultado: Esto genera un haz de excitación «puro». Sin este filtro, el ruido parásito del láser penetraría en el canal de detección de fluorescencia, que suele detectar señales DAPI alrededor de 460 nm, lo que produciría una señal de fondo elevada y arruinaría el contraste de la imagen.

US Patent 20240170925 - Method for active stabilization of an injection locked laser with an optical bandpass filter

Patente de EE. UU. 20240170925 - Método para la estabilización activa de un láser bloqueado por inyección mediante un filtro óptico de paso de banda

Contexto: Esta patente describe un método para estabilizar un sistema láser monofrecuencia de alta potencia mediante «bloqueo por inyección», en el que un láser maestro controla un láser esclavo.

Uso del filtro: En el bucle de realimentación/supervisión se utiliza un filtro óptico pasabanda estrecho centrado en la longitud de onda del láser, por ejemplo, 405 nm si se emplean diodos violetas.

Función: El filtro se coloca delante de un fotodetector para analizar el modo espectral del láser esclavo. Distingue entre el modo bloqueado deseado y los modos no deseados.

Resultado: Esto permite estabilizar la frecuencia del láser de forma sencilla, compacta y robusta sin necesidad de voluminosas redes de difracción, lo que posibilita aplicaciones de alta precisión como el enfriamiento por láser o la espectroscopia.

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