Filtro de paso de banda de 254nm

Contexto: Un sistema de imagen forense diseñado para detectar huellas dactilares latentes en superficies lisas y no porosas, como vidrio o plástico, sin utilizar polvos ni productos químicos.

Uso del filtro: El filtro se coloca en la trayectoria óptica entre el objetivo y el sensor de imagen digital (CCD/CMOS).

Función: Actúa como mecanismo de bloqueo «ciego a la radiación solar». Bloquea toda la luz visible e infrarroja y solo deja pasar la estrecha banda UV de 254nm emitida por la iluminación de la escena.

Resultado: La cámara captura una imagen de alto contraste en la que las huellas dactilares, que dispersan la luz 254nm, aparecen brillantes sobre un fondo oscuro, incluso en una habitación iluminada. Esto permite a los investigadores ver huellas invisibles a simple vista.

Contexto: Un sistema de sensores ambientales utilizado para controlar la concentración de ozono O3 en el aire o en procesos industriales.

Uso del filtro: El filtro está integrado directamente en la ventana del detector de fotodiodo semiconductor situado al final de la cámara de muestreo de gas.

Función: Aísla la línea espectral de 254nm de la fuente UV, normalmente una lámpara de mercurio. El ozono presenta su sección transversal de absorción máxima específicamente en 254nm. El filtro evita las interferencias de otros gases o de longitudes de onda de luz parásita.

Resultado: El sistema permite obtener mediciones precisas y cuantificables de la concentración de ozono (hasta partes por mil millones) midiendo exactamente cuánto disminuye la intensidad de la luz de 254nm al atravesar la muestra de gas.

Contexto: Un sistema de control de calidad que utiliza la emisión de electrones estimulada ópticamente (OSEE) para comprobar la limpieza de las superficies metálicas, por ejemplo, la presencia de grasa u oxidación, antes de unirlas o pintarlas.

Uso del filtro: El filtro se utiliza en el conjunto de iluminación para acondicionar la salida de luz de una lámpara de descarga de mercurio.

Función: Purifica la fuente de luz dejando pasar únicamente los fotones de alta energía de 254nm (4.9 eV). Este nivel específico de energía es necesario para expulsar electrones de la superficie metálica mediante el efecto fotoeléctrico, al tiempo que se evita calentar la muestra o provocar reacciones fotoquímicas no deseadas por otras longitudes de onda.

Resultado: El sistema proporciona una «puntuación de limpieza» uniforme y precisa mediante la medición de la corriente de electrones emitidos. Si la superficie está sucia, los contaminantes absorben los fotones de 254nm y la corriente de electrones disminuye, lo que alerta al operador de un defecto.