Filtro de paso de banda de 343nm

Situada en el espectro ultravioleta (UV), la luz de 343nm posee una energía fotónica específica capaz de excitar materiales fluorescentes o interactuar con determinadas estructuras moleculares.

Aplicación 1: (Microscopía de fluorescencia) Se utiliza para aislar con precisión la luz de excitación de 343nm, eliminando la interferencia de luz parásita y mejorando la claridad de las señales fluorescentes procedentes de muestras biológicas.

Aplicación 2: (Monitorización ambiental) Detecta contaminantes con un pico de absorción característico en 343nm, como determinados compuestos orgánicos, para permitir una detección espectral de alta sensibilidad en el análisis de la calidad del agua y del aire.

Aplicación 3: (Análisis biomédico) Funciona junto con matrices de sensores para filtrar la banda espectral de 343nm, facilitando la monitorización cuantitativa de marcadores fluorescentes específicos durante cultivos celulares o ensayos bioquímicos.

US9518865B2 - Device for measuring a power of a radiation source

US9518865B2 - Dispositivo para medir la potencia de una fuente de radiación

Contexto: Un dispositivo para medir la distribución de densidad de potencia de una fuente de radiación, diseñado específicamente para láseres de alta potencia utilizados en el procesamiento de materiales.
Uso del filtro: El filtro de paso de banda se coloca en la trayectoria óptica antes del sensor (fotodiodo o CCD) y después de la etapa de atenuación o división del haz.
Función: Aislar la longitud de onda UV específica 343nm del ruido de fondo, la luz ambiental o las frecuencias fundamentales residuales del láser (p. ej., 1030nm o 515nm) que podrían no haberse convertido por completo durante la generación de armónicos.
Resultado: Medición precisa y sin ruido del perfil de densidad de potencia del láser UV, lo que garantiza que los parámetros del láser cumplan los estrictos requisitos del micromecanizado.

US20170259375A1 - Optical system for beam shaping

US20170259375A1 - Sistema óptico para conformación de haz

Contexto: Un sistema óptico diseñado para conformar el haz, que normalmente convierte un haz láser gaussiano en un perfil «Top Hat» o cuadrado uniforme para lograr una ablación láser homogénea.
Uso del filtro: El filtro se utiliza en la entrada del módulo de conformación del haz o como parte de la óptica de transporte del haz.
Función: Los elementos ópticos difractivos (DOEs) utilizados para conformar el haz dependen en gran medida de la longitud de onda. El filtro garantiza que solo la longitud de onda de diseño (343nm) entre en la óptica de conformación. Si entran longitudes de onda de banda ancha o incorrectas, los ángulos de difracción cambian y se altera la forma del haz de salida.
Resultado: Un punto de haz muy uniforme y dimensionalmente preciso sobre la pieza de trabajo, que evita profundidades de ablación desiguales durante la fabricación.

US11610801 - Laser-releasable bonding materials

US11610801 - Materiales de unión liberables por láser

Contexto: Materiales de unión liberables por láser utilizados en el encapsulado 3D de semiconductores. Una capa de liberación a base de polyketanil une una oblea de dispositivos a un soporte y se «despega» mediante la exposición a energía láser UV.
Uso del filtro: Se integra en el cabezal de despegado por láser para acondicionar el haz antes de que atraviese el soporte de vidrio e incida en la capa de liberación.
Función: Transmitir fotones 343nm de alta energía, que son absorbidos por la capa de liberación y rompen los enlaces químicos, mientras se bloquean las longitudes de onda infrarrojas (IR) que generan calor.
Resultado: Separación «en frío» de la delicada oblea semiconductora de su soporte sin daños térmicos ni tensiones, dejando una superficie limpia para el procesamiento posterior.