Filtros ópticos utilizados en la inspección de la precisión de superposición
Los filtros ópticos para la inspección de la precisión de superposición están diseñados para transmitir bandas seleccionadas del espectro visible, ultravioleta o infrarrojo cercano, a la vez que reducen la luz no deseada fuera de banda. En metrología de semiconductores y fotolitografía, estos filtros mejoran el contraste óptico de las marcas y estructuras de alineación entre las distintas capas de la oblea, lo que permite medir el registro entre capas.
Aplicaciones:
- Metrología de semiconductores para mejorar el contraste de las marcas de alineación entre múltiples capas de obleas de silicio
- Control de procesos de fotolitografía para supervisar y calcular el registro de superposición entre capas
- Inspección de defectos y metrología de dimensiones críticas (CD) en la fabricación de semiconductores