193 nm (ArF) Bandpassfilter

• Hochwertige 193-nm-Excimerlaseroptik für fortschrittliche Lithografieanwendungen
• Präzisionsbeschichtete Quarzglassubstrate, optimiert für die ArF-Laserwellenlänge
• Beschichtungen mit geringer Absorption und hoher Schadensschwelle für eine längere Lebensdauer der Optik
• Erhältlich in verschiedenen Standardgrößen und kundenspezifischen Konfigurationen auf Anfrage
• Strenge Qualitätskontrolle gewährleistet gleichbleibende Leistung in anspruchsvollen Umgebungen

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