Kategorie: 193 nm (ArF)

Photolithografie in der Halbleiterherstellung : Die bekannteste Anwendung von 193 nm-Licht ist die Photolithografie bei der Halbleiterherstellung. Diese Wellenlänge wird in Excimerlaser-Lithografiesystemen verwendet, um sehr feine Strukturen auf Halbleiterscheiben zu strukturieren. Die kurze Wellenlänge ermöglicht die Herstellung von Schaltkreisen mit extrem kleinen Strukturen, was für moderne Mikroprozessoren und Speichergeräte entscheidend ist.

Materialforschung und -verarbeitung : Aufgrund seiner hohen Energie und seiner Fähigkeit, molekulare Bindungen aufzubrechen, wird 193 nm-Licht bei der Materialverarbeitung eingesetzt, insbesondere beim Ätzen und bei der Oberflächenmodifizierung. Es ist effektiv bei der präzisen und berührungslosen Änderung von Materialeigenschaften, was bei sensiblen Anwendungen von Vorteil ist.

Spektroskopie : Tiefes UV-Licht bei 193 nm wird in spektroskopischen Methoden verwendet, um die elektronischen Übergänge in Molekülen zu untersuchen. Dies ist wichtig in der chemischen Analyse, wo es hilft, Substanzen zu identifizieren und ihre Eigenschaften anhand der Art und Weise zu verstehen, wie sie Licht bei dieser Wellenlänge absorbieren oder emittieren.

Mikrobielle Desinfektion : Obwohl es zur Sterilisation nicht so gebräuchlich ist wie UV-Licht mit längerer Wellenlänge, wird UV-Licht mit 193 nm in einigen speziellen Desinfektionsanwendungen eingesetzt, wo seine starken keimtötenden Eigenschaften Bakterien, Viren und andere Krankheitserreger wirksam inaktivieren können.

Medizinische Anwendungen : In der Medizin wird 193 nm UV-Licht bei bestimmten Augenoperationen eingesetzt, beispielsweise bei der photorefraktiven Keratektomie (PRK), bei der die Hornhaut neu geformt wird, um Sehfehler zu korrigieren.