f=299,9 mm, AR-Beschichtung =R<1 % @400–700 nm und R<0,7 % @480–520 nm, H-ZLAF66, positive Meniskuslinse (PML)
f=299,9 mm, AR-Beschichtung =R<1 % @400–700 nm und R<0,7 % @480–520 nm, H-ZLAF66, positive Meniskuslinse (PML)
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/
pro
f= 299,9 mm
AR-Beschichtung = R<1 % @400–700 nm und R<0,7 % @480–520 nm
Material = H-ZLAF66
R1, R2 = -65,73 mm, 55,1 mm
Tc = 10 mm
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