二氧化钛(TiO2),俗称钛白,是薄膜光学镀膜制造中广泛使用的介电材料。TiO2 以其极高的折射率和出色的耐用性而闻名,是操纵各种光学系统(特别是在可见光和近红外(NIR)光谱中)光线的基石材料。
光学特性
TiO2 在光学组件中的应用源于其特定的物理和光学特性:
- 高折射率: TiO2 在透明光学镀膜材料中拥有最高的折射率之一。根据沉积方法和光的特定波长,其折射率 (n) 通常在 2.2 到 2.4 之间。
- 宽透明范围:它在可见光谱(约 400 纳米)到近红外区域(最远可达约 3000 纳米,即 3 微米)表现出优异的透光性。
- 吸收和散射:如果沉积正确,TiO2 薄膜在其透射范围内具有极低的吸收和散射损耗,使其成为高精度激光光学的理想选择。

制造和沉积方法
为了制造高效的光学元件,TiO2 被沉积在基板(如玻璃、石英或其他光学晶体)上,形成极薄且精确控制的涂层。常见的沉积技术包括:
- 电子束蒸发:一种传统方法,其中电子束在真空中熔化并汽化 TiO2 材料,使其在基板上凝结。
- 离子辅助沉积(IAD):常与蒸发结合使用,该方法用离子束轰击生长中的薄膜。这会使 TiO2 层致密化,稳定其折射率,并使涂层高度抵抗湿度等环境变化。
- 离子束溅射(IBS):这种高能量过程可生产最致密、最光滑、最无缺陷的 TiO2 涂层。IBS 通常用于需要超低光学损耗和最大耐用性的严苛应用。

在光学领域的应用
由于其高折射率,TiO2 很少单独使用。它最常与低折射率材料(如二氧化硅(SiO2,n ~ 1.45))配对,以创建交替层。这种高/低折射率对比导致光在层边界处发生干涉,这可以设计以实现特定的光学效果:
- 光学带通滤波器:通过精确控制交替的 TiO2 和 SiO2 层的厚度,制造商可以创建多层介质堆栈,只传输特定窄带波长,同时反射所有其他波长。这在激光系统、电信和光谱学中非常宝贵。
- 减反射(AR)涂层:少量策略性放置的包含 TiO2 的层可以大大减少透镜和窗户的表面反射,从而最大化透光率。
- 高反射(HR)镜:堆叠许多交替的四分之一波长 TiO2 层和低折射率材料可创建介质镜,能够在特定波长下反射超过 99.9% 的入射光。
- 分束器: TiO2 涂层可以设计成部分透射和部分反射光线,将单束光分成两条光路。
优点和局限性
优点:
- 与低折射率材料配对时,由于强对比度,可创建高度紧凑和高效的光学堆栈。
- 卓越的机械硬度和耐磨性。
- 高耐化学性,使组件在各种环境条件下均耐用。
局限性:
- TiO2 在约 350 nm 到 400 nm 以下强烈吸收紫外(UV)光,使其不适用于深紫外光学应用。
- 沉积过程需要仔细控制真空室中的氧气水平,以防止薄膜变得光学吸收(亚化学计量)。