• Laser Line Bandpass Filter

    常用激光线和波长

    准分子激光器

    • ArF :193nm(半导体光刻、硅片精密清洗)。
    • KrF :248nm(去除光刻胶残留物和有机污染物)。
    • XeCl :308 nm(医疗器械表面去污)。

    Nd:YAG激光器

    • 基本波长:1064 nm(工业金属清洁,去除铁锈和氧化层)。
    • 二次谐波(SHG) :532 nm(用于精密清洁的可见光)。
    • 第四谐波(FHG) :266nm(光学元件的超精密清洁)。
    • 第三谐波(THG) :355nm(半导体晶圆清洗,去除亚微米颗粒)。

    氦氖(He-Ne)激光器

    • 红色:632.8 nm(电子制造中的对准和检查)。
    • 绿色:543.5 nm(塑料上的激光标记)。

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