343nm带通滤光片

应用背景： 一种用于测量辐射源功率密度分布的设备，专为材料加工中使用的高功率激光器设计。
滤光片用途： 带通滤光片置于传感器（光电二极管或CCD）之前，以及衰减或分光级之后的光路中。
功能： 将特定的343nm UV波长与背景噪声、环境光或谐波产生过程中可能未完全转换的残余激光基频（例如1030nm或515nm）分离。
结果： 精确、无噪声地测量UV激光的功率密度分布，确保激光参数满足微加工的严格要求。

应用背景： 一种用于光束整形的光学系统，通常将高斯激光束转换为“Top Hat”光束轮廓或均匀的方形光束轮廓，以实现均匀的激光烧蚀。
滤光片用途： 滤光片安装在光束整形模块的输入端，或作为光束传输光学系统的一部分。
功能： 用于光束整形的衍射光学元件（DOEs）对波长高度敏感。滤光片确保只有设计波长（343nm）进入整形光学系统。如果宽带光或错误波长的光进入，衍射角将发生变化，从而破坏输出光束的形状。
结果： 在工件上形成均匀性高且尺寸精确的光斑，防止制造过程中出现烧蚀深度不均。

应用背景： 用于半导体3D封装的激光可剥离键合材料。基于polyketanil的剥离层将器件晶圆与载板键合，并通过UV激光能量照射实现“解键合”。
滤光片用途： 集成于激光解键合头中，在光束穿过玻璃载板并照射剥离层之前对光束进行调控。
功能： 透射可被剥离层吸收并破坏化学键的高能343nm光子，同时截止会产生热量的红外波长（IR）。
结果： 在不造成热损伤或应力的情况下，将精密的半导体晶圆从载板上“冷”分离，并留下洁净表面供后续加工。