Herstellung von Bandpassfiltern und Forschung zur Strahlungsschutzleistung

Zitat

赵会聪 (Zhao Huicong). ( 7. Juli 2014). 哈尔滨工业大学 [Harbin Institute of Technology].

Schlüsselwörter

• 带通滤光片 / Bandpassfilter
• 膜系设计 / Filmstrukturdesign
• 双截止组合结构 / Doppelt abgeschnittene Verbundstruktur
• ZnS / Zinkoxid
• MgF2 / Magnesiumoxid
• 沉积温度 / Abscheidungstemperatur
• 电子束真空镀膜 / Elektronenstrahl-Vakuumabscheidung
• 1MeV Elektronenstrahlung / 1MeV Elektronenbestrahlung
• 透过率光谱 / Transmissionsspektrum
• 抗辐照性能 / Anti-Radiation Performance
• 基底玻璃 / Substratglas
• 空间带电粒子 / Raumgeladene Teilchen
• 着色效应 / Farbeffekt
• Passband / Durchlassbereich
• Cut-off-Band
• Filmmaterial
• 光学薄膜 / Optische Dünnschicht

Knapp

Die Arbeit beschreibt detailliert den Entwurf und die Herstellung eines 400–800 nm-Bandpassfilters mittels Elektronenstrahlverdampfung mit ZnS- und MgF2-Dünnschichten und bewertet seine Beständigkeit gegenüber einer Elektronenbestrahlung von 1 MeV , wobei die Auswirkungen der Abscheidungstemperatur auf die Schichteigenschaften und die Strahlungsbeständigkeit des Filters im Vergleich zum Substratglas berücksichtigt werden.

Zusammenfassung

Diese Arbeit befasste sich mit dem Entwurf und der Herstellung eines 400–800 nm Bandpassfilters mittels Elektronenstrahlverdampfung mit dünnen ZnS- und MgF2-Schichten . Die Studie untersuchte den Einfluss der Abscheidungstemperatur auf die Eigenschaften der ZnS- und MgF2-Einzelschichten und ermittelte die optimale Abscheidungstemperatur bei 250 °C . Der hergestellte Bandpassfilter mit doppelter Cut-off-Verbundstruktur wurde anschließend einer 1-MeV-Elektronenbestrahlung unterzogen, um seine Strahlungsbeständigkeit zu beurteilen . Die Ergebnisse zeigten, dass der Bandpassfilter im Vergleich zum Substrat Glas eine bessere Beständigkeit gegen strahlungsbedingten Transmissionsverlust aufwies.

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