Langwellenfilter (II) 20～100 Mikron Langwellenfilter

Zitat

盛勇 (Sheng Yong) (译) [übersetzt von], 京涌 (Jing Yong) (校) [Korrekturgelesen von]. 长波滤光片(二)20～100微米长波滤光片 [Langwellenfilter (II) 20～100 Mikron Langwellenfilter]. [Quelle der Veröffentlichung unbekannt], [Jahr der Veröffentlichung unbekannt], [Seitenzahlen wie in den Auszügen angegeben].

Schlüsselwörter

  • 长波滤光片 / Langwellenfilter
  • 窄带滤光片 / Schmalbandpassfilter
  • 低通滤光片 / Tiefpassfilter
  • Mehrschichtfolie / Mehrschichtfolie
  • Substrat
  • Dünnschicht
  • Hochvakuum
  • 剩余射线吸收 / Reststrahlenabsorption
  • 组合滤光片 / Kombinationsfilter
  • Absorptionsband / Absorption band
  • 多层膜系统 / Mehrschichtiges Foliensystem
  • 增透膜层 / Antireflexbeschichtung
  • Sperrbereich / Stop band
  • Bandbreite
  • 截止波长 / Grenzwellenlänge

Knapp

In diesem Artikel werden die Herstellung und Leistung verschiedener Schmalbandpass- und Tiefpass-Langwellen-Infrarotfilter im Bereich von 1 Mikrometer und 20–100 Mikrometer untersucht . Dabei werden Substrat- und Dünnschichtmaterialien, Abscheidungsmethoden und die Herausforderungen bei der Erzielung der gewünschten optischen und mechanischen Eigenschaften erörtert.

Zusammenfassung

In diesem Artikel wird die Herstellung von Langwellen-Infrarotfiltern im Bereich von 1 Mikrometer sowie 20–100 Mikrometer erörtert , darunter sowohl Schmalbandpass- als auch Tiefpassfilter . Er untersucht verschiedene Substratmaterialien wie Germanium, Silizium und kristallinen Quarz sowie Dünnschichtmaterialien wie Germanium, Zinksulfid und Cadmiumtellurid . Der Artikel hebt die Herausforderungen bei der Abscheidung stabiler Mehrschichtfilme hervor , die auf Faktoren wie nicht übereinstimmende Materialeigenschaften und innere Spannungen zurückzuführen sind . Es werden verschiedene Filterdesigns, Abscheidungstechniken (Hochvakuumverdampfung) und Leistungsmerkmale (Durchlässigkeit, Bandbreite) untersucht, wobei der Schwerpunkt auf der Überwindung von Problemen wie Unterdrückung der Kurzwellenübertragung, Substratbeschränkungen (z. B. Absorption, Doppelbrechung) und dem Erreichen der gewünschten spektralen Reaktionen liegt . Die Verwendung von Antireflexbeschichtungen und Schutzschichten wird ebenfalls erwähnt.

Herkunft:

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