中赤外線デュアルチャンネルバンドパスフィルタの研究と準備

引用

王松林 (WANG Song － lin)、米高园 (MI Gao － yuan)、张建付 (ZHANG Jian － fu)、杨崇民 (YANG Chong － min)、刘青龙 (LIU Qing － long)、王颖辉 (WANG Ying － hui)、韩俊 (HAN Jun)。 中波外双道帯通過光片の研究（中波－赤外デュアルチャンネルバンド－パスフィルターの研究と準備）[J]。 熱光と外 (レーザーと赤外線)、2017、47(6): 740-744。

キーワード

• 中波红外 / 中波赤外線
• デュアルチャンネル透過光片 / デュアルチャンネルバンドパスフィルター
• 带透過光フィルム / バンドパスフィルターフィルム
• 负滤光フィルム / ネガフィルターフィルム
• 截止带 / 拒否ゾーン/カットオフバンド
• 透過率
• 単結晶ゲルマニウム基板
• 锗 / Ge
• 硫化亜鉛 / ZnS
• 電子ビーム蒸着 / 電子ビーム蒸着
• 膜の厚さ
• 蒸発角
• フィルムシステム设计 / フィルムシステム設計
• 光谱性能・分光特性
• 通過帯域
• 次峰
• 膜堆 / Film stack
• 霍尔离子源 / ホールイオン源

簡単な

この記事では、 Ge 基板の片面にバンドパス フィルター フィルムを堆積し、反対側にネガティブ フィルター フィルムを堆積することで、中波長赤外線デュアル チャネル バンドパス フィルターの設計と準備について詳しく説明します。実験結果には製造誤差による若干の偏差が見られましたが、良好な透過率とカットオフ特性が実現されています。

まとめ

この記事では、ゲルマニウム (Ge) 基板の片面にバンドパス フィルター フィルムを堆積し、反対側にネガティブ フィルター フィルムを堆積することによる、中波長赤外線デュアル チャネル バンドパス フィルターの設計と製造について詳しく説明します。この研究では、良好な通過帯域透過率とカットオフ深度が達成されましたが、実験結果では、堆積プロセス中の蒸発角度の変化と累積したフィルム厚誤差により、二次ピークとわずかなシフトを伴う除去ゾーンの偏差が示されました。

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