コレクション: 偏光ビームスプリッタープレート

偏光板ビームスプリッターの紹介

偏光板ビームスプリッターは、偏光状態に基づいて光を 2 つの経路に分離するように設計された特殊な光学部品です。これらのビームスプリッターは、S 偏光を反射し、P 偏光を透過する偏光層でコーティングされています。この機能は、レーザー アプリケーション、分光法、偏光ベースのイメージングなど、さまざまな光学システムで非常に重要です。

偏光板ビームスプリッターの主な仕様

• 設計波長これらのビームスプリッターは、405 nm から 1550 nm までの波長範囲で使用できるため、さまざまなレーザー ソースに幅広く使用できます。
• 消光比: 45°の入射角で10,000:1を超える高い消光比を持ち、s偏光とp偏光を効率的に分離します。
• 伝送効率p偏光の透過効率は95%を超えており、透過ビームの損失を最小限に抑えます。
• サイズ: 2 つのサイズがあります: Ø1 インチ (25.4 mm) の円形と 25.0 mm x 36.0 mm の長方形。
• 基板: 高い光学品質と耐久性を備えた UV フューズド シリカ製です。
• 表面品質表面品質は 20-10 スクラッチ-ディグであり、透過波面誤差は 632.8 nm で λ/4 であり、光学歪みが最小限に抑えられます。
• ダメージ閾値: ハードコーティングにより、より高い損傷しきい値が実現します。具体的な値は、レーザーの波長とタイプによって異なります (例: 532 nm のパルスレーザーの場合は 5 J/cm²)。

コンポーネント選択のケーススタディ

偏光板ビームスプリッターを選択する際には、いくつかの要素を考慮する必要があります。

• 波長の互換性: ビームスプリッターがレーザー ソースの特定の波長に合わせて設計されていることを確認します。たとえば、532 nm レーザーを使用している場合は、この波長に合わせて最適化されたビームスプリッターを選択します。
• 偏光要件: s 偏光と p 偏光を効率的に分離する必要があるかどうかを判断します。高い消光比が重要な場合は、これらのビームスプリッターが最適です。
• 取り付けと調整: これらのビームスプリッターは 45° の入射角で使用するように設計されているため、取り付けオプションを考慮して簡単に位置合わせできるようにしてください。固定光学マウントを使用すると、これを容易に行うことができます。

代表的なアプリケーションとその使用理由

偏光板ビームスプリッターは、いくつかの重要な用途で使用されます。

• レーザーシステム: レーザー システムでは、これらのビームスプリッターは偏光を分離して操作するのに役立ちます。これは、ビームの品質を維持し、偏光状態を制御するために不可欠です。
• 分光法分光アプリケーションでは、偏光ビームスプリッターを使用して、サンプルによって放出または吸収された光の偏光特性を分析できます。
• 偏光ベースのイメージングこれらのビームスプリッターは、偏光顕微鏡などの偏光ベースの画像化技術において非常に重要であり、異なる偏光成分を分離することで画像のコントラストを高めるのに役立ちます。
• 光通信システム光通信システムでは、偏光ビームスプリッターを使用して光信号の偏光状態を管理できます。これは、信号の整合性を維持するために重要です。

これらのコンポーネントは、高い消光比、高い透過効率、堅牢な損傷しきい値を備えているため、他のタイプのビームスプリッターよりも好まれ、正確な偏光制御が必要なアプリケーションに最適です。