コレクション: 非偏光ビームスプリッタープレート

非偏光板ビームスプリッターの紹介

非偏光プレート ビームスプリッターは、干渉計、生命科学機器、レーザー ビーム操作システムなど、さまざまな用途で使用される重要な光学部品です。これらのビームスプリッターは、光の偏光状態を変えずに入射光を 2 本以上のビームに分割するように設計されています。この機能により、幅広い光学設定で非常に汎用性が高く、役立ちます。

非偏光板ビームスプリッターの主な仕様

材料と波長範囲

非偏光板ビームスプリッターは、幅広い波長範囲をカバーするためにさまざまな素材で提供されています。一般的な素材は次のとおりです。

• UV フューズド シリカ: UV から近赤外線 (NIR) の波長 (250 - 1700 nm) に適しています。
• IR フューズドシリカ: 赤外線波長 (900 - 2600 nm) に使用されます。
• BK7A: 可視光線や近赤外線の用途によく使用されるホウケイ酸ガラス。
• フッ化カルシウムとセレン化亜鉛: 中赤外線 (MIR) 波長用。

コーティングと偏光独立性

これらのビームスプリッターは、s 偏光成分と p 偏光成分が指定波長で同じ反射率を持つようにコーティングされています。これにより、偏光依存性は 10% 未満、場合によっては 5% まで低下し、ビームスプリッターが入射ビームの偏光状態を変えないことが保証されます。

表面品質と平坦性

非偏光プレート ビームスプリッターは、通常、表面品質と平坦性が高く、633 nm で < λ / 10、表面品質 < 10/5 と指定されることが多いです。

反射防止コーティング

これらのビームスプリッターの背面には通常、ゴーストや干渉の影響を最小限に抑えるために反射防止 (AR) コーティングが施されています。AR コーティングにより、反射は通常 0.25% 未満に低減されます。

ビーム分割比

これらのビームスプリッターは、入射光を 50/50 などの指定された比率で分割するように設計でき、許容誤差は ±7% です。

ダメージ閾値

これらのビームスプリッターの高出力バージョンはレーザー損傷しきい値が高く、10 ns パルスで 3 J/cm² を超えることもよくあります。

コンポーネントの選択に関する事例研究

非偏光板ビームスプリッターを選択する際には、いくつかの要素を考慮する必要があります。

• 波長: ビームスプリッターの素材が光源の波長と互換性があることを確認します。たとえば、1064 nm の Nd:YAG レーザーを使用している場合は、この波長に最適化されたビームスプリッターを選択します。
• パワーハンドリング: 高出力レーザーを使用する場合は、コンポーネントの損傷を防ぐために、損傷しきい値の高いビームスプリッターを選択してください。
• 偏波独立性: ビームスプリッターが必要な偏光独立性を備え、ビームの偏光状態が変化しないことを確認します。
• 表面品質と平坦性: ビームの完全性を維持するには、表面品質と平坦性が非常に重要になります。仕様がアプリケーションの要件を満たしていることを確認してください。

代表的な用途とコンポーネントが使用される理由

干渉法

非偏光プレート ビームスプリッターは、光の偏光状態が変化しないことを保証するため、干渉測定アプリケーションに最適です。これは、正確な測定に不可欠です。

ライフサイエンス機器

ライフサイエンス機器では、これらのビームスプリッターは、光の偏光状態を維持することが正確なデータ収集に不可欠な顕微鏡検査や分光検査のセットアップで使用されます。

レーザービーム操作

レーザー システムでは、非偏光プレート ビームスプリッターを使用して、偏光を変えずにレーザー ビームを複数の経路に分割します。これは、レーザー材料処理やレーザー誘起ブレークダウン分光法 (LIBS) などのアプリケーションで特に役立ちます。

光学計測

これらのビームスプリッターは、正確な結果を得るために重要な光の偏光状態を維持することで正確な測定を保証するために、光学計測にも使用されます。要約すると、非偏光プレート ビームスプリッターは、偏光状態を変えずに光を分割できるため、さまざまな光学アプリケーションに不可欠な多用途のコンポーネントであり、現代の光学において非常に信頼性が高く効率的なツールとなっています。