コレクション: レーザーラインクリーンアップ用フィルター

一般的に使用されるレーザーラインと波長

エキシマレーザー：

• ArF ：193 nm（半導体リソグラフィー、シリコンウェーハの精密洗浄）。
• KrF : 248 nm (フォトレジスト残留物および有機汚染物質の除去)。
• XeCl : 308 nm（医療機器の表面除染）。

Nd:YAGレーザー:

• 基本波長：1064 nm（工業用金属洗浄、錆や酸化層の除去）。
• 第二高調波（SHG） ：532 nm（精密洗浄用の可視光）。
• 第 4 高調波 (FHG) : 266 nm (光学部品の超精密クリーニング)。
• 第三高調波（THG） ：355 nm（半導体ウェーハの洗浄、サブミクロン粒子の除去）。

ヘリウムネオン（He-Ne）レーザー：

• 赤：632.8 nm（電子機器製造におけるアライメントと検査）。
• 緑：543.5 nm（プラスチックへのレーザーマーキング）。