248nm 대역통과 필터

248nm 광은 자외선(UV) 스펙트럼의 특정 파장으로, 에너지가 높고 특정 물질과 정밀한 분자 수준에서 상호 작용할 수 있는 것으로 알려져 있습니다.

  • 용도 1: 반도체 리소그래피에서 KrF 엑시머 레이저가 방출하는 248nm 파장을 분리하여 마이크로칩 제조용 포토마스크에 패턴을 정확하게 형성합니다.
  • 용도 2: UV 분광법에서 불필요한 파장을 필터링하고 특정 유기 화합물이나 생체 분자처럼 248nm에서 분광 활성을 나타내는 시료의 흡광도 또는 형광을 정밀하게 측정합니다.
  • 용도 3: 광학 센싱 시스템에서 주변광을 차단하고 248nm 광만 투과시켜 신호 대 잡음비를 높임으로써 대기질 모니터링이나 오염물질 분석과 같은 응용 분야의 검출 감도를 향상합니다.

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248nm Bandpass Filter
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필터

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활성 필터:

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활성 필터:

US7450312B2 - Optical projection lens system

US7450312B2 - 광학 투사 렌즈 시스템

맥락: 반도체 웨이퍼에 회로 패턴을 인쇄하는 공정인 마이크로리소그래피에 사용되는 광학 투영 렌즈 시스템.

필터의 용도: 대역 통과 필터는 흔히 선폭 축소 모듈 또는 스펙트럼 순도 필터의 일부로 사용되며, 빛이 투사 렌즈에 들어가기 전에 KrF 엑시머 레이저 광원의 광경로에 배치됩니다.

기능: 조명광의 스펙트럼 대역폭을 248 nm로 엄격하게 제한하며, 일반적으로 피코미터(pm)의 일부 수준까지 좁힙니다.

결과: 이를 통해 투영 렌즈의 색수차를 방지합니다. 이 렌즈는 단일 소재인 용융 실리카로 제작되어 색상에 따른 초점 이동을 보정할 수 없습니다. 따라서 시스템은 서브마이크론 크기의 매우 미세한 형상을 정확한 초점으로 인쇄할 수 있습니다.

S7136159B2 - Excimer laser inspection system

US7136159B2 - 엑시머 레이저 검사 시스템

배경: 반도체 웨이퍼의 결함을 검출하기 위한 엑시머 레이저 검사 시스템.

필터 용도: 이 필터는 조명부 또는 검출 경로에서 특정 248 nm 레이저 라인을 배경 잡음이나 광대역 방출로부터 분리하는 데 사용됩니다.

기능: 분광 선택기 역할을 하여 고에너지 심자외선(DUV)만 시료와 상호 작용하거나 검출기에 도달하도록 하고, 대비를 낮출 수 있는 더 긴 파장(가시광선/IR)은 차단합니다.

결과: 웨이퍼 표면의 "서브파장" 결함(빛의 파장보다 작은 결함)을 높은 신호 대 잡음비로 고속 검출할 수 있습니다.

US20240201131 Patent Application - Native Fluorescence Detection for Protein Analysis

US20240201131 (특허 출원) - 단백질 분석을 위한 고유 형광 검출

맥락: 단백질 분석을 위한 고유 형광 검출(특히 모세관 전기영동 시스템).

필터의 용도: 밴드패스 필터는 광원(주로 레이저 구동 플라즈마 또는 주파수 배가 레이저) 뒤에 배치되어 여기 빔이 모세관에 도달하기 전에 불필요한 광을 제거합니다.

기능: 특정 심자외선 여기 파장(예: 248 nm 또는 유사한 심자외선)을 선택하고, 미세한 형광 신호를 방해할 수 있는 미광이나 기타 고조파 주파수를 차단합니다.

결과: 이 시스템은 외부 형광 염료 표지 없이 단백질 내부의 고유 형광단(아미노산인 트립토판 등)을 성공적으로 여기하며, 매우 높은 감도(10-20 nM 범위의 검출 한계)를 달성합니다.

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