266nm 대역통과 필터

266nm 대역통과 필터는 266nm 부근을 중심으로 하는 특정 심자외선 대역을 투과시키면서 불필요한 대역 외 광을 줄이도록 설계되었습니다.

응용 분야:
- Nd:YAG 또는 Nd:YVO₄ 레이저의 266nm 사차 고조파 레이저 라인 정제
- 분광학 또는 광학 측정을 위한 심자외선 레이저 여기
- 1064nm, 532nm, 355nm 및 266nm 광을 사용하는 시스템의 고조파 분리
- UV 감응형 포토다이오드, PMT 또는 분광기 전단에서 검출기 측 266nm 신호 분리
- UV 광학 시험 또는 측정 구성용 광대역 DUV 광원 필터링

대역폭 옵션:
- 10nm FWHM: 266nm 레이저 라인 선택 및 검출기 측 신호 분리용
- 40nm FWHM: 더 넓은 DUV 신호 수집, 광대역 광원 필터링 또는 더 많은 UV 투과 신호가 필요한 시스템용

레이저 광원, 차단 요구 사항, 검출기 감도, DUV 투과 요구 사항 및 광출력 수준에 따라 대역폭을 선택하십시오.

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266nm Bandpass Filters
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선정 가이드

266nm에서의 제4고조파 Nd:YAG / Nd:YVO₄ 레이저

CWL 266nm 및 FWHM 10nm 조건을 사용하여 266nm 4차 고조파 레이저 라인을 선택하거나, 광원을 정제하거나, 검출기 측에서 분리합니다.

266nm는 일반적으로 1064nm Nd:YAG 또는 Nd:YVO₄ 레이저의 4차 고조파로 생성됩니다. 이 광원에서 중요한 사양은 266nm 부근의 CWL 일치도, FWHM, 266nm에서의 투과율, 불필요한 파장 범위에 대한 OD 차단 성능, 그리고 빔 조건에 적합한 DUV 코팅 성능입니다.

광대역 DUV 광원 필터링

설정에서 266nm 부근의 투과 UV 신호가 더 많이 필요한 경우, 광대역 DUV 광원 필터링에 CWL 266nm 및 40nm FWHM을 사용하십시오.

중수소 램프, 제논 램프 또는 광대역 UV 광원의 경우 필터가 더 넓은 스펙트럼에서 DUV 대역을 추출합니다. 시스템에서 조명, 테스트 또는 검출기 측 측정에 사용할 수 있는 UV 신호가 필요한 경우 40nm FWHM 옵션이 더 실용적입니다.

응용 자료

US20030219252A1 - Molecular Optical Air Data Systems (MOADS)

US20030219252A1 - 분자 광학 대기 데이터 시스템(MOADS)

배경: 물리적 피토관을 광학 센서로 대체하여 대기 데이터 매개변수를 측정하는 항공기 탑재형 LIDAR 시스템입니다.

필터 용도: Fabry-Pérot 간섭계 수신기 어셈블리에 통합됩니다.

기능: 스펙트럼 체처럼 작용하여 266nm에서 후방 산란된 레이저광을 엄격하게 분리하고, 이 “솔라 블라인드” UV 영역에서 본래 낮은 배경 태양 복사와 기타 미광을 차단합니다.

결과: 필터링된 빛의 도플러 이동을 분석하여 풍속, 공기 밀도 및 온도를 정밀하게 측정합니다.

US20200163553 - Label-Free Single and Multi-Photon Fluorescence Spectroscopy

US20200163553 - 비표지 단일 및 다광자 형광 분광법

배경: 화학 염료를 사용하지 않고 뇌 조직을 분석하여 신경퇴행성 질환을 검출하는 진단용 의료기기입니다.

필터 용도: 여기 광로에 배치하여 레이저 광원을 정제하거나 방출 광로에 배치하여 266nm 여기광을 차단하면서 자가형광 신호를 투과시킵니다.

기능: 266nm 여기 빔을 정제하여 266nm 여기와 구별되는 흡수/방출 피크를 갖는 아미노산인 트립토판만 선택적으로 여기하도록 합니다.

결과: 알츠하이머병 및 파킨슨병과 관련된 바이오마커 이상(트립토판 수치)을 검출합니다.

US9061083B2 - Ultraviolet Laser Sterilization System

US9061083B2 - 자외선 레이저 살균 시스템

배경: 지향성 UV 레이저를 사용하여 병원이나 실험실의 표면을 소독하는 로봇형 살균 시스템.

필터 용도: 레이저 출력 모듈 내부에서 사용되며, 주로 고조파 분리기 역할을 합니다.

기능: Nd:YAG 레이저 광원에서 생성된 잔류 기본파(1064nm)와 제2고조파(532nm) 파장을 차단하여 266nm(제4고조파) UV-C 빔을 분리합니다.

결과: 표면을 가열하지 않고 고강도 살균 UV 방사선을 조사하여 대상 영역(1-4 mm²)을 빠르게 비접촉 방식으로 살균합니다.

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