632.8nm / 633nm 밴드패스 필터

632.8nm / 633nm 대역 통과 필터는 He-Ne 레이저 라인 주변의 선택된 적색 파장 대역을 투과시키면서 불필요한 대역 외 광을 줄이도록 설계되었습니다.

응용 분야:
- 632.8nm He-Ne 레이저 라인 클린업
- 광학 간섭계, 정렬 및 계측 시스템
- 카메라, 포토다이오드 또는 분광계 전단의 검출기 측 적색 레이저 신호 분리
- 레이저 기반 측정 및 교정 구성
- 목표 신호가 632–633nm 부근에 있는 적색 영역 광학 감지

대역폭 옵션:
- He-Ne 레이저 라인을 더 좁게 분리하기 위한 2.9nm 및 3nm FWHM
- 통과 대역 여유를 더 확보하면서 632nm, 632.8nm 또는 633nm 레이저 신호를 실용적으로 클린업하기 위한 10nm FWHM

레이저 파장, 파장 허용 오차, 검출기 감도, 차단 범위 및 필요한 신호 레벨을 기준으로 대역폭을 선택하십시오.

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632.8nm / 633nm Bandpass Filters
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선정 가이드

632.8nm He-Ne 레이저 라인 정제

He-Ne 레이저 라인 정제, 광원 분리 또는 검출기 측 레이저 신호 선택에는 CWL 632.8nm 및 FWHM 2.9–10nm를 사용하십시오.

632.8nm는 표준 적색 헬륨 네온 레이저 라인입니다. He-Ne 레이저 시스템의 주요 사양에는 632.8nm 부근의 CWL 일치, FWHM, 레이저 라인에서의 투과율, 불필요한 파장 범위 전반의 OD 차단이 포함됩니다.

광 간섭계, 정렬 및 계측

간섭계, 정렬, 정밀 계측 및 레이저 기반 측정 광경로에는 CWL 632.8nm 또는 633nm와 FWHM 2.9–10nm를 사용합니다.

이러한 시스템에서 필터는 적색 레이저 라인을 분리하고 광경로나 검출기에 도달하는 불필요한 광원 배경 또는 미광을 줄이는 데 도움이 됩니다. 레이저 라인을 더 강하게 분리하려면 FWHM 2.9–3nm를 사용하고, 통과 대역 여유가 더 필요한 경우에는 FWHM 10nm를 사용합니다.

검출기 측 적색 신호 분리

목표 신호가 He-Ne 적색선 부근에 있을 때는 실리콘 포토다이오드, CMOS/CCD 카메라, PMT 또는 분광기 입력부 앞에 CWL 632.8nm 또는 633nm, FWHM 2.9–10nm 필터를 사용하십시오.

검출기 측 필터링에서 이 필터는 적색 레이저 신호를 투과시키고 불필요한 가시광 또는 광대역 배경광을 줄여 신호 대 배경비를 향상합니다. 파장 분리를 강화하려면 FWHM 2.9–3nm를 사용하고, 더 높은 신호 레벨과 정렬 허용 오차가 필요하면 FWHM 10nm를 사용하십시오.

응용 자료

US4678324A - Range Finding by Diffraction

US4678324A - 회절을 이용한 거리 측정

개요: 이 특허는 물체에 회절 패턴을 투사하여 표면 형상과 깊이를 측정하는 3D 거리 측정 시스템을 설명합니다. 이 시스템은 현미경 또는 머신 비전에 흔히 사용됩니다.

필터 사용: 632.8 nm 대역 통과 필터를 검출 시스템(카메라 또는 광검출기) 앞에 배치합니다.

기능: 이 시스템은 일반적으로 헬륨-네온(HeNe) 레이저 광원을 사용하여 회절 격자를 투영합니다. 필터는 모든 주변광(햇빛, 실내 조명)을 차단하면서 물체에서 반사된 특정 632.8 nm 레이저광만 검출기로 통과시킵니다.

결과: 이를 통해 높은 신호 대 잡음비를 달성합니다. 따라서 시스템은 그림자나 배경 조명이 아니라 투영된 레이저 패턴만을 기준으로 거리를 계산하여 정밀한 서브마이크론 깊이 측정을 구현합니다.

US6809859B2 - Optical Filter and Fluorescence Spectroscopy System

US6809859B2 - 광학 필터 및 형광 분광 시스템

배경: 이 특허는 생물학적 시료를 레이저로 여기하여 빛을 방출하게 하는 형광 분광 시스템용 고성능 박막 광학 필터의 구조를 상세히 설명합니다.

필터 용도: 632 nm 대역 통과 필터는 여기 필터로 작동합니다.

기능: HeNe 레이저 또는 적색 다이오드 레이저와 같은 적색 레이저 광원의 출력에서 스펙트럼 "노이즈"나 측파대를 제거하여, 순수한 632 nm 광만 시료에 도달해 적색 형광 염료(예: Alexa Fluor 633 또는 Cy5)를 여기하도록 합니다.

결과: 이를 통해 형광 신호의 "배경 잡음"을 최소화합니다. 여기 파장만 시료에 입사하도록 하여 검출기가 미약한 방출 형광 신호(더 긴 파장으로 이동한 신호)를 훨씬 명확하게 구분할 수 있으므로 고대비 생물학 이미지를 생성할 수 있습니다.

US5726805A - Optical Filter Including a Sub-wavelength Periodic Structure

US5726805A - 서브파장 주기 구조를 포함하는 광학 필터

배경: 이 특허는 나노미터 규모의 격자 구조를 사용하여 극히 좁은 파장 범위의 빛을 반사하거나 투과시키는 "유도 모드 공진"(GMR) 필터를 다루며, 이러한 필터는 화학 센서에 흔히 사용됩니다.

필터 용도: 이 특허는 서브파장 구조 자체에 의해 구현되며 632.8 nm 대역 통과 필터로 기능하도록 설계된 협대역 프로브 필터를 설명합니다.

기능: 화학 감지 구성에서 이 필터는 632.8 nm 프로브 빔의 거의 100%를 반사하면서 다른 파장은 투과하도록 조정됩니다. 화학 물질이 필터 표면에 결합하면 공명이 이동하여 632.8 nm 광이 갑자기 투과하거나 더 이상 반사되지 않습니다.

결과: 이를 통해 화학 물질의 존재가 판독 가능한 광 신호로 변환됩니다. 그 결과, 632 nm 빔의 세기를 모니터링하여 기체나 생물학적 물질로 인한 굴절률의 미세한 변화를 식별할 수 있는 고감도 비표지 화학 검출기가 구현됩니다.

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