BP193-20 대역 통과 필터(CWL=193nm, FWHM=20nm)

BP193-20 대역 통과 필터 - ArF 엑시머 레이저 Deep UV-C 정밀

BP193-20 대역통과 필터는 심자외선 광학 엔지니어링의 정점을 나타내며, 중요한 193nm 파장에서 탁월한 성능을 제공합니다. ArF(불화아르곤) 엑시머 레이저 응용 분야를 위해 특별히 설계된 이 필터는 20nm의 좁은 FWHM 대역폭과 OD2 차단 특성을 결합하여 반도체 제조 및 첨단 분광학 분야에서 가장 까다로운 심자외선-C 응용 분야에 탁월한 스펙트럼 선택성을 제공합니다.

주요 특징

• 중심파장(CWL): 193nm - ArF 엑시머 레이저 라인에 최적화됨
• 좁은 대역폭: 20nm FWHM으로 깊은 자외선에서 뛰어난 스펙트럼 분해능 제공
• 광학 밀도: OD2 차단은 원치 않는 파장을 100:1로 차단합니다.
• 심층 UV 최적화: 극한 UV-C 투과를 위해 설계된 특수 코팅
• 높은 내구성: 하드코팅 표면은 UV 분해 및 환경 요인에 강합니다.
• 정밀 제조: 까다로운 엑시머 레이저 응용 분야를 위해 설계되었습니다.

응용 프로그램

다음을 포함한 고급 심자외선 응용 분야에 필수적입니다.

• ArF 엑시머 레이저 라인 필터링 및 빔 클린업(193.3nm)
• 반도체 광석판술 및 웨이퍼 검사
• 심자외선 분광법 및 광도측정법
• 첨단 소재 가공 및 미세 가공
• 광화학 및 광중합 연구
• 진공 UV(VUV) 광학 시스템
• 레이저 유도 형광 분광법
• 박막 증착 모니터링

기술적 우수성

193nm 파장은 현대 반도체 제조에서 가장 중요한 레이저 라인 중 하나이며, 최첨단 마이크로프로세서 및 메모리 칩 생산을 위한 첨단 포토리소그래피에 사용되는 ArF 엑시머 레이저 출력에 해당합니다. BP193-20 필터의 좁은 20nm 대역폭은 탁월한 스펙트럼 선택성을 제공하여 플라즈마 방출 및 기타 원치 않는 파장을 차단하는 동시에 193nm 레이저 라인을 정밀하게 분리할 수 있습니다.

깊은 UV-C 영역에서 작동하는 것은 고유한 광학적 문제를 야기합니다. 193nm에서 대부분의 기존 광학 소재는 불투명해지기 때문에 특수 기판과 코팅 소재가 필요합니다. 당사의 BP193-20 필터는 이 극한의 파장에서도 높은 투과율과 내구성을 유지하도록 특별히 설계된 고급 UV 등급 소재와 독점 코팅 기술을 사용하여 제조됩니다.

OD2(100:1) 차단 성능을 갖춘 이 필터는 대역 외 파장을 효과적으로 억제합니다. 이는 스펙트럼 순도가 공정 품질과 측정 정확도에 직접적인 영향을 미치는 응용 분야에 필수적입니다. 이러한 차단 성능은 특히 반도체 포토리소그래피에서 중요한데, 극미량의 원치 않는 파장이라도 패턴 해상도와 임계 치수에 영향을 미칠 수 있기 때문입니다.

최첨단 이온빔 스퍼터링 기술을 사용하여 제어된 환경에서 제조된 BP193-20은 파면 왜곡을 최소화하면서 전체 조리개에 걸쳐 일관된 성능을 제공합니다. 하드 코팅된 표면은 심자외선의 높은 광자 에너지를 견딜 수 있도록 설계되어 장기적인 안정성과 자외선으로 인한 열화에 대한 저항성을 보장합니다.

20nm 대역폭은 ArF 엑시머 레이저 응용 분야에 최적화되어, 레이저 라인을 포착하는 데 충분한 스펙트럼 폭을 제공하는 동시에 인접 파장의 우수한 차단 성능을 유지합니다. 따라서 이 필터는 복잡한 광학 시스템에서 레이저 라인 정리, 스펙트럼 분석 및 파장 선택 검출에 이상적입니다.

반도체 포토리소그래피, 심자외선 분광학 연구, 첨단 소재 가공 시스템 개발, 정밀 엑시머 레이저 장비 제작 등 어떤 분야에서든 BP193-20은 전문적인 심자외선 응용 분야에 필요한 파장 정밀도, 광학 품질, 그리고 내구성을 제공합니다. 반도체급 성능을 제공하는 극한 자외선 광학 부품은 SyronOptics를 믿고 사용하세요.