248nm Bandpassfilter

248nm Licht ist eine bestimmte Wellenlänge im ultravioletten (UV) Spektrum, die für ihre hohe Energie und ihre Fähigkeit bekannt ist, auf einer genau definierten molekularen Ebene mit bestimmten Materialien zu interagieren.

  • Anwendung 1: In der Halbleiterlithografie zur Isolierung der von KrF-Excimerlasern emittierten Wellenlänge 248nm, um eine präzise Strukturierung von Fotomasken für die Herstellung von Mikrochips sicherzustellen.
  • Anwendung 2: In der UV-Spektroskopie zur Filterung unerwünschter Wellenlängen und zur präzisen Messung der Absorption oder Fluoreszenz von Proben, die bei 248nm spektrale Aktivität aufweisen, beispielsweise bestimmte organische Verbindungen oder biologische Moleküle.
  • Anwendung 3: In optischen Sensorsystemen zur Verbesserung des Signal-Rausch-Verhältnisses, indem Umgebungslicht gesperrt und ausschließlich Licht mit 248nm durchgelassen wird. Dies erhöht die Detektionsempfindlichkeit bei Anwendungen wie der Überwachung der Luftqualität oder der Schadstoffanalyse.

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US7450312B2 - Optical projection lens system

US7450312B2 - Optisches Projektionslinsensystem

Kontext: Ein in der Mikrolithografie, dem Verfahren zum Aufbringen von Schaltungsmustern auf Halbleiterwafer, verwendetes optisches Projektionslinsensystem.

Verwendung des Filters: Der Bandpassfilter, häufig Bestandteil eines Linienverengungsmoduls oder eines Filters zur Verbesserung der spektralen Reinheit, wird im Strahlengang der KrF-Excimerlaserquelle platziert, bevor das Licht in das Projektionsobjektiv eintritt.

Funktion: Begrenzt die spektrale Bandbreite des Beleuchtungslichts präzise auf 248 nm und verengt sie typischerweise auf einen Bruchteil eines Pikometers (pm).

Ergebnis: Dadurch wird die chromatische Aberration im Projektionsobjektiv vermieden. Dieses besteht aus einem einzigen Material, Quarzglas, und kann Farbverschiebungen der Fokusebene nicht korrigieren. So kann das System extrem feine Strukturen im Submikrometerbereich mit perfekter Fokussierung drucken.

S7136159B2 - Excimer laser inspection system

US7136159B2 - Inspektionssystem mit Excimerlaser

Kontext: Excimerlaser-Inspektionssystem zur Erkennung von Defekten auf Halbleiterwafern.

Verwendung des Filters: Der Filter wird im Beleuchtungsarm oder im Detektionspfad eingesetzt, um die spezifische 248 nm-Laserlinie von Hintergrundrauschen oder breitbandiger Emission zu isolieren.

Funktion: Er dient als Spektralselektor und stellt sicher, dass nur das hochenergetische tiefe UV-Licht (DUV) mit der Probe wechselwirkt oder den Detektor erreicht. Gleichzeitig werden längere Wellenlängen (sichtbar/IR), die den Kontrast verringern könnten, geblockt.

Ergebnis: Die Hochgeschwindigkeitsdetektion von „Subwellenlängen“-Defekten (Defekten, die kleiner als das Licht selbst sind) auf der Waferoberfläche wird mit einem hohen Signal-Rausch-Verhältnis erreicht.

US20240201131 Patent Application - Native Fluorescence Detection for Protein Analysis

US20240201131 (Patentanmeldung) - Detektion nativer Fluoreszenz für die Proteinanalyse

Kontext: Detektion nativer Fluoreszenz für die Proteinanalyse (insbesondere in Kapillarelektrophorese-Systemen).

Verwendung des Filters: Der Bandpassfilter wird hinter der Lichtquelle (häufig einem laserinduzierten Plasma oder einem frequenzverdoppelten Laser) positioniert, um den Anregungsstrahl zu „bereinigen“, bevor er auf das Kapillarröhrchen trifft.

Funktion: Der Filter selektiert die spezifische Anregungswellenlänge im tiefen UV (wie 248 nm oder ähnliche tiefe UV-Linien) und blockiert jegliches Streulicht oder andere harmonische Frequenzen, die das empfindliche Fluoreszenzsignal beeinträchtigen könnten.

Ergebnis: Das System regt erfolgreich native Fluorophore (wie die Aminosäure Tryptophan) in Proteinen an, ohne dass externe Fluoreszenzmarker erforderlich sind, und erreicht eine äußerst hohe Empfindlichkeit (Nachweisgrenze im Bereich von 10-20 nM).

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