Kategorie: Filter zur Laserlinienreinigung

Häufig verwendete Laserlinien und Wellenlängen

Excimer-Laser :

• ArF : 193 nm (Halbleiterlithographie, Präzisionsreinigung von Silizium-Wafern).
• KrF : 248 nm (Entfernung von Fotolackrückständen und organischen Verunreinigungen).
• XeCl : 308 nm (Oberflächendekontamination von medizinischen Geräten).

Nd:YAG-Laser :

• Grundlegende Wellenlänge : 1064 nm (industrielle Metallreinigung, Entfernung von Rost und Oxidschichten).
• Zweite Harmonische (SHG) : 532 nm (sichtbares Licht für Präzisionsreinigung).
• Vierte Harmonische (FHG) : 266 nm (ultrapräzise Reinigung optischer Komponenten).
• Dritte Harmonische (THG) : 355 nm (Reinigung von Halbleiterwafern, Entfernung von Partikeln im Submikronbereich).

Helium-Neon-Laser (He-Ne) :

• Rot : 632,8 nm (Ausrichtung und Inspektion in der Elektronikfertigung).
• Grün : 543,5 nm (Lasermarkierung auf Kunststoffen).