343nm Bandpassfilter

Das im ultravioletten (UV) Spektrum liegende Licht bei 343nm besitzt eine spezifische Photonenenergie, mit der fluoreszierende Materialien angeregt werden können oder die mit bestimmten Molekülstrukturen wechselwirken kann.

Anwendung 1: (Fluoreszenzmikroskopie) Dient zur präzisen Isolation des Anregungslichts bei 343nm, wodurch Störungen durch Streulicht beseitigt und die Klarheit der Fluoreszenzsignale biologischer Proben verbessert werden.

Anwendung 2: (Umweltüberwachung) Erfasst Schadstoffe mit einem charakteristischen Absorptionsmaximum bei 343nm, beispielsweise bestimmte organische Verbindungen, und ermöglicht so eine hochempfindliche spektrale Detektion bei der Analyse der Wasser- und Luftqualität.

Anwendung 3: (Biomedizinische Analyse) Wird zusammen mit Sensorarrays zur Filterung des Spektralbands bei 343nm eingesetzt und ermöglicht die quantitative Überwachung bestimmter Fluoreszenzmarker während der Zellkultur oder biochemischer Assays.

US9518865B2 - Device for measuring a power of a radiation source

US9518865B2 - Vorrichtung zur Messung der Leistung einer Strahlungsquelle

Kontext: Ein Gerät zur Messung der Leistungsdichteverteilung einer Strahlungsquelle, das speziell für Hochleistungslaser in der Materialbearbeitung entwickelt wurde.
Verwendung des Filters: Der Bandpassfilter wird vor dem Sensor (Fotodiode oder CCD) und nach der Abschwächungs- oder Strahlteilungsstufe in den Strahlengang eingesetzt.
Funktion: Isolierung der spezifischen UV-Wellenlänge 343nm von Hintergrundrauschen, Umgebungslicht oder verbleibenden Grundfrequenzen des Lasers (z. B. 1030nm oder 515nm), die bei der Erzeugung harmonischer Frequenzen möglicherweise nicht vollständig umgewandelt wurden.
Ergebnis: Präzise, rauschfreie Messung des Leistungsdichteprofils des UV-Lasers, um sicherzustellen, dass die Laserparameter die strengen Anforderungen der Mikrobearbeitung erfüllen.

US20170259375A1 - Optical system for beam shaping

US20170259375A1 - Optisches System zur Strahlformung

Kontext: Ein optisches System zur Strahlformung, das typischerweise einen gaußförmigen Laserstrahl in ein „Top-Hat“-Profil oder ein homogenes quadratisches Profil für einen gleichmäßigen Laserabtrag umwandelt.
Verwendung des Filters: Der Filter wird am Eingang des Strahlformungsmoduls oder als Teil der Strahlführungsoptik eingesetzt.
Funktion: Diffraktive optische Elemente (DOEs) zur Strahlformung sind stark wellenlängenabhängig. Der Filter stellt sicher, dass nur die Auslegungswellenlänge (343nm) in die Strahlformungsoptik gelangt. Wenn breitbandiges Licht oder Licht mit falschen Wellenlängen eintritt, ändern sich die Beugungswinkel und die Form des Ausgangsstrahls wird beeinträchtigt.
Ergebnis: Ein äußerst homogener, maßgenauer Strahlfleck auf dem Werkstück, der ungleichmäßige Abtragstiefen bei der Fertigung verhindert.

US11610801 - Laser-releasable bonding materials

US11610801 - Laserlösbare Verbindungsmaterialien

Kontext: Durch Laser lösbare Bondmaterialien für die Halbleiter-3D-Verkapselung. Eine Trennschicht auf Polyketanil-Basis verbindet einen Bauelement-Wafer mit einem Träger und wird durch Einwirkung von UV-Laserenergie „gelöst“.
Verwendung des Filters: In den Laser-Debonding-Kopf integriert, um den Strahl aufzubereiten, bevor er den Glasträger durchdringt und auf die Trennschicht trifft.
Funktion: Transmission hochenergetischer 343nm-Photonen, die von der Trennschicht absorbiert werden und die chemischen Bindungen aufbrechen, während wärmeerzeugende infrarote Wellenlängen (IR) blockiert werden.
Ergebnis: „Kalte“ Trennung des empfindlichen Halbleiter-Wafers von seinem Träger ohne thermische Schäden oder Spannungen. Dabei bleibt eine saubere Oberfläche für die nachfolgende Bearbeitung zurück.