Optische Filter für die Prüfung der Overlay-Genauigkeit
Optische Filter für die Prüfung der Overlay-Genauigkeit sind dafür ausgelegt, ausgewählte sichtbare, ultraviolette oder nahinfrarote Spektralbereiche zu transmittieren und gleichzeitig unerwünschtes Licht außerhalb des Durchlassbereichs zu reduzieren. In der Halbleitermesstechnik und Fotolithografie erhöhen diese Filter den optischen Kontrast von Ausrichtungsmarken und Strukturen zwischen verschiedenen Waferschichten und ermöglichen dadurch die Messung der Registrierung zwischen den Schichten.
Anwendungen:
- Halbleitermesstechnik zur Erhöhung des Kontrasts von Ausrichtungsmarken über mehrere Siliziumwaferschichten hinweg
- Prozesskontrolle in der Fotolithografie zur Überwachung und Berechnung der Overlay-Registrierung zwischen den Schichten
- Defektprüfung und Critical-Dimension-(CD)-Messtechnik in der Halbleiterfertigung