BP193-20 带通滤光片(CWL=193nm,FWHM=20nm)
BP193-20 带通滤光片(CWL=193nm,FWHM=20nm)
PN： SO3010786
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BP193-20 带通滤波器 - ArF 准分子激光器深紫外C精密型
BP193-20 带通滤波器代表了深紫外光学工程的巅峰之作，在关键的 193nm 波长处展现出卓越的性能。该滤波器专为 ArF（氟化氩）准分子激光器应用而设计，结合了 20nm 的窄带半峰全宽 (FWHM) 和 OD2 阻挡特性，为半导体制造和先进光谱学等要求最苛刻的深紫外-C 应用提供卓越的光谱选择性。
主要特点
- 中心波长 (CWL)： 193nm - 针对 ArF 准分子激光器线优化
- 窄带宽： 20nm FWHM，在深紫外区提供出色的光谱分辨率。
- 光密度： OD2阻隔确保100:1抑制不需要的波长
- 深紫外线优化：专为极强紫外线C波段透射而设计的特殊涂层
- 高耐久性：硬涂层表面可抵抗紫外线降解和环境因素的影响
- 精密制造：专为高要求的准分子激光应用而设计
应用程序
对于高级深紫外应用至关重要，包括：
- ArF准分子激光器线滤波和光束净化（193.3nm）
- 半导体光刻和晶圆检测
- 深紫外光谱和光度学
- 先进材料加工和微加工
- 光化学和光聚合研究
- 真空紫外（VUV）光学系统
- 激光诱导荧光光谱
- 薄膜沉积监测
技术卓越
193nm波长是现代半导体制造中最关键的激光谱线之一，对应于用于先进光刻技术以生产尖端微处理器和存储芯片的ArF准分子激光器的输出。我们的BP193-20滤波器具有20nm的窄带宽，提供卓越的光谱选择性，能够精确分离193nm激光谱线，同时滤除等离子体发射和其他不需要的波长。
在深紫外C波段工作面临着独特的光学挑战。在193纳米波长处，大多数传统光学材料会变得不透明，需要使用特殊的基材和镀膜材料。我们的BP193-20滤光片采用先进的紫外级材料和专有的镀膜技术制造，专为在该极端波长下保持高透射率和耐久性而设计。
这款滤光片具有 OD2 (100:1) 的阻隔性能，可有效抑制带外波长，这对于光谱纯度直接影响工艺质量和测量精度的应用至关重要。这种阻隔性能在半导体光刻中尤为重要，因为即使是微量的非必需波长也会影响图案分辨率和关键尺寸。
BP193-20 采用先进的离子束溅射技术在受控环境下制造，在整个孔径范围内均能提供一致的性能，并将波前畸变降至最低。其硬质涂层表面经过特殊设计，能够承受深紫外辐射特有的高光子能量，从而确保长期稳定性并抵抗紫外线引起的性能退化。
20nm带宽针对ArF准分子激光器应用进行了优化，在提供足够光谱宽度以捕获激光谱线的同时，还能对相邻波长保持出色的抑制。这使得该滤波器成为复杂光学系统中激光谱线净化、光谱分析和波长选择性检测的理想选择。
无论您是从事半导体光刻、深紫外光谱研究、开发先进材料加工系统，还是构建精密准分子激光仪器，BP193-20 都能提供专业深紫外应用所需的波长精度、光学质量和耐用性。选择 SyronOptics，即可获得性能媲美半导体级的极紫外光学元件。
传输和 OD 数据
传输和 OD 数据
透射曲线为典型值。实际数据可能因批次而异，您可以向我们索取原始透射率和光密度数据。
复制产品页面的链接并发送电子邮件至shop@syronoptics.com以获取原始数据。
装运和交付
装运和交付
对于有库存的产品，通常会在订购后 5 个工作日内发货。
对于定制产品，通常会在订购后 4-8 周内发货。
退货和退款
退货和退款
库存产品可在收到后 7 天内退货。
退货将收取 35 美元的统一费用。
自定义尺寸
自定义尺寸
60x60mm以下尺寸可定制。不带安装厚度一般在0.5-3mm之间。
如需更大尺寸，请联系shop@syronoptics.com了解详情。
光学切割是指将光学材料（尤其是具有特殊涂层的材料）分割成更小的功能组件，同时保持其结构和光学完整性的精密切割工艺。对于光学镀膜平板（例如玻璃、熔融石英或涂有抗反射层、介电层或其他光学层的半导体等平面基板），切割可确保这些镀膜基板满足光子学、激光器、传感器和半导体器件应用的精确尺寸要求。
方法
- 锯切：金刚石涂层刀片，可实现干净切割，并最大程度减少碎裂。
- 激光切割：针对精细或易碎材料进行非接触式烧蚀，减少机械应力。
- 等离子切割：用于超精细特征的干法蚀刻，适用于先进的半导体晶圆。
价格
切割服务通常每片价格在 50 美元到 125 美元之间。具体价格取决于您要求的精度和尺寸。
包装
包装
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我们的过滤器可以根据列表中所示的安装方式进行切割。请联系我们获取报价。
